MASK AOI Front side ： Particle Pellicle Side： Particle, scratch, pinhole Glass Side: Particle, scratch, water mark, contamination Pellicle frame ： Particle
1.Defect 檢出：>5 um (glass/pellicle) >5 um (pattern side) >15um(Frame) 2. SFO獨特光學技術® 3. Mask無需翻面 3. Particle size 分類 4. 曝光前後瑕疵控管 5. Class 1無塵等級 6. 結合 OHT system
